Semiconductor CERAMIC CERAMUS

Collum semiconductor ceramicum magni momenti munus in theHDP-CVD, Ad pressius imperium gas fluxus ac ensuresummus qualis film deposition. Collum ceramicum imbre praecise machinatum est ut rates fluentes gasi constantes et moderabiles sint, extenuando turbulentum fieri cum gas reactionis cubiculum intrat.

Technica cubits:

1.Material compositionem:

VeTeK Semiconductor arenae ceramicae uredine nozzulae typice factae sunt ceramicorum semiconductorium sicut oxydatum aluminii (Al2O3);Pii carbide (SiC), Aut zirconium cadmiae (ZrO2), hae materiae excellentes proprietates habent;

    • alta stabilitas scelerisque (matururae supra 1000℃ sustinere potest)

    • resistentia ad corrosio per reactivum vapores inProcessus CVD(ut silanum, ammoniacum)

    • Resistentia ad continua Pure patefacio.

2. Design structuralis:

    • Orificium Size: Orificium Ceramici collis semiconductoris scientifice designatum est ut subtilis ditionis gasi fluat, quae rursus uniformitatem et crassitudinem cinematographici afficit.

    • Anglorum et geometries: pressius disposito ut uniformis Gas distribution trans subiecto, obscuratis defectibus in deposita iacuit.

In semiconductor industria, siconductor tellus sonum COLLUM Play a key munus praesertim in HDP, CVD processus. Sunt etiam ad deposit tenuis films ad productionem Microelectronics, cursus summus qualitas superficiem coatings, quae uniformis et liberabo contaminantium.

VeTeK Semiconductor Ceramic Nozzle tabernae: