Silicon Nitride

I. Excellens chemical stabilitatem

Silicon Nitride LATERAMEN Have optimum eget stabilitatem et potest sustinere varietate fortis acida, alkalis et mordax vapores. In semiconductor vestibulum processus saepe opus ad agam cum corrumive chemicals, silicon nitride LATERAMEN potest providere diu-term stabilis perficientur praestant.

II. Optimum mechanica proprietatibus

Silicon Nitride LATERAMEN High duritia, optimum compressive viribus et gerunt resistentia, potest sustinere mechanica accentus et superficiem gerunt, non facile ad deformatio vel rupture. Mechanica res facit aptissimum materiam structuram et processu partes in semiconductor apparatu.

III. Summus temperatus stabilitatem

Silicon Nitride LATERAMEN potest ponere stabilitatem in summus temperatus environments, non facile ad mollire aut conflandum, et potest sustinere summus temperatus processus et tractantem in semiconductor vestibulum processus. Hoc sino quod est in fabricare de summus temperatus processus apparatu clavis components, ut target, reactionem thalamum components et sic in.

IV. Optimum insulating proprietatibus

Insulating proprietatibus sunt critica in semiconductor fabrica fabrica. Silicon Nitride LATERAMEN habere bonum insulating proprietatibus, quae potest efficaciter segregare et defendat circuitu components ex current leakage vel electro intercessiones, auxilium ad amplio stabilitatem et reliability de fabrica.

V. scelerisque conductivity et scelerisque

Silicon Nitride LATERAMEN est princeps scelerisque conductivity, potest efficaciter mores et dissipare calor generatae a fabrica, auxilium ad temperatus stabilitatem de fabrica in operating processus. Hoc est discrimine ad altus-perficientur operationem de semiconductor cogitationes.

I. Electrostatic chucks et Etching camera components

Silicon Nitride Ceramics saepe usus est ut materiae ad electrostatic chucks et etching cubiculum components in semiconductor vestibulum propter eorum optimum eget stabilitatem et caliditas resistentia. Electrostatic chucks sunt ad fix et stabiliendum lana aut subiecta, cum etching cubiculum components sunt usus ad sustinere mordax vapores et summus temperatus environments.

II. Gas distribution laminis et reflectors

Silicon Nitride Ceramics sunt etiam in fabricare de semiconductor apparatu in Gas distribution laminis et reflectors. Gas distribution laminas sunt ad uniformiter distribute reactive vel tutela vapores in reactionem cubiculum, dum reflectors sunt ad optimize distribution et reflexio efficientiam et uniformitatem ad emendare reactionem et uniformitatem.

III. Holders et scelerisque components

Silicon Nitride LATERAMEN saepe usus est ut Holders et scelerisque Management Components in Semiconductor vestibulum apparatu. Haec components postulo ut boni mechanica vires, gerunt resistentia et scelerisque conductivity ut firmum apparatu operationem et fabrica processui accurate.

IV. Chemical mechanica Polising (CMP) Pads

Silicon Nitride Ceramic late usus est in codex materiales in chemical mechanica polising (CMP) processus. Habet optimum et gerunt resistentia, et potest praebere firmum firmamentum in Polising processus ut in planities et praecisione de semiconductor laganum superficiem.