Wafer

Azymum Substratumest laganum factum ex semiconductore unius materiae crystalli. Subiectum laganum processus fabricandi directe ingredi potest ad machinas semiconductores producendas, vel per processum epitaxialem ad lagana epitaxialem producendum discursum esse.

Wafer Substratum, ut structuram semiconductoris machinarum fundamentalem sustinens, machinis effectionem et stabilitatem directe afficit. Sicut "fundamentum" pro fabrica fabricandi semiconductor, series processus faciendi sicut incrementum cinematographicum tenue et lithographia opus est ut in subiecto peragatur.

Genera subiecti:

 ●Unius crystalli silicon laganum: nunc frequentissima materia subiecta, late usus in circuitibus fabricandis (ICs), microprocessores, memorias, cogitationes MEMS, machinis potentiae, etc.;

 ●SOI subiecti: usus ad summus perficientur, humilis-virtutis ambitus integratus, ut summus frequentia analogorum et circuitus digitales, RF cogitationes et administratio potentiae astulae;

 ●Compositum semiconductor substratum: Gallium arsenide substratum (GaAs): proin et millimetre unda machinas communicationis, etc. Gallium nitride substratum (GaN): pro RF potentia amplificativa, HEMT, etc.Pii carbide distent (SiC): usus pro vehiculis electricis, conversis potentiae aliisque machinationibus phosphidi substrati Indium potentiae (InP): adhibitis pro lasers, photodetectoribus, etc.;

 ●Sapphirus distent: usus ad fabricam LED, RFIC (circuitus frequentiae radiophonicae integralis), etc.;

Vetek Semiconductor professio est Substratum SiC et SOI substratum in Sinis elit. Our4H semi-genus insulating SiC subiectaet4H Semi Insulating Type SiC Substratelate in instrumentis clavibus componentibus semiconductor fabricandis. 

Vetek Semiconductor committitur ut provectae et customizable Wafer Substrata producta et solutiones technicas variarum specificationum pro industria semiconductoris committatur. Sincere nos expectamus elit in Sina becoming tuum.