Support Service

VeTek Semiconductor qualitatis Aluminium Nitride (AlN) lagana unica crystallis tribuit et substrata generationi proximae ultra-latae bandgap semiconductoris machinas. Cum fasciculo ultra-lato circiter 6.2 eV, praestantia conductivitatis scelerisque, insulationis electricae eximia, et cancelli eximii ac thermarum expansionis cum GaN, AlN lagana optimae potentiae RF machinas, alta vis electronicarum voltationis, et optoelectronics profunde (DUV) sunt.

VETEK Professional Purgatio pro CVD SiC Coated Partes Graphite est specialis technicae servitutis intentio Aixtron / Veeco MOCVD instrumentorum susceptorum et graphitarum in GaN / AlN / AlGaN processibus epitaxialibus adhibitis. Nostra processus proprietatis purgatio penitus effectum superficiem memoriae excludit, gasi stabilis in reactoris fluxum restaurat, et 100 µm CVD SiC stricte protegit cum absoluta nulla crassitudine iactura et residuo metalli nulla.

Sicut postulatio sensus summus et humilis MEMS transductores crescit cum expansione 5G communicationum, subtilitas medicinae machinarum, et lassitudines callidi, nostrum PZT in Si/SOI lagana criticam solutionem materialem praebent. Processus depositionis velo tenuis adhibitis provectis ut Sol-gel vel putris, eximiam constantiam consequimur et perficiendi piezoelectrica superiori in substratis siliconibus. Haec lagana principale nucleum pro industria electromechanicae conversionis inserviunt.

Silicon carbide cristallum incrementum est nucleus processus in fabricandis machinationibus semiconductoris summus perficiendi. Stabilitas, praecisio, et compatibilitas instrumentorum incrementi crystallini directe determinant qualitatem et reddunt ingots carbide Pii. Ex notis Vaporis Transporti Physici (PVT) technologiae, Veteksemi evolvit resistentiam calefaciendi fornacem siliconis carbidi crystalli incrementi, ut incrementum stabilium 6 pollicis, 8 inch, et 12-inch crystallorum carbidi pii cum plena congruentia cum conductivis, semi-insulantibus et N-typis materialibus systematibus. Per accuratam temperaturam, pressionem et potentiam, vitia crystallina efficaciter minuit ut EPD (Etch Pit Densitas) et BPD (Dislocationis Plane Basal), dum energiae humilis consummatio et pacta intentio ad alta signa productionis magnarum industriae occurrit.

CMP slurry expolitio (Chemica Mechanica, Slurry politura) summus effectus est materia in fabricandis semiconductoribus et in processu materiali praecisione adhibita. Core munus eius est consequi subtilitatem et expolitionem superficiei materialis sub synergistic effectu corrosionis chemicae et stridor mechanicae ut occurrat planicii et superficiei qualitatis requisitis in gradu Nano. Tuam porro consultationem exspecto.

Ut a ducens Seres sic wafer manufacturers et amet, Vetek Semiconductor cvd sic sic coating Donec Wafer est specialized tool in semiconductor vestibulum, maxime usus est ad Silicon Wafer Testing et Wafer Processus. Vestri porro inquiries sunt grata.