Materials & Design

Diligens compositus subiectum et iuncturam efficiens clavis est ad impediendam defectum componentis praematura, minuens particulam contaminationem, et laganum maxima cede. Nos solutiones materiae et fabricae designationis formandam praebemus circa processus specifici emptoris fenestrae (temperatus operans, gas chemiae gasi reciprocus, rates aggerem).

Nostrum Core Design Capabilities:

Rigorous CTE Suspendisse eu:Celeri enim cycli scelerisque cycli (>100 °C/min), accurate aequamus curvas temperaturas CTE graphite substratae et CVD substratae altae, fundamentaliter reducendo periculum deleminationis et micro-crassionis.
Processus-Scenario-Imprimis Coating Electio:CVD SiC coating for Si/SiC epitaxy (Epi), MOCVD, et ambitus plasma engraving; CVD TaC efficiunt condiciones altiores temperaturas et valde corrosivae (v.g., SiC incrementum unius crystalli PVT).
Controllable Resistivity & Scelerisque Conductivity Optimization:Praecisa moderatio mole resistentiae et conductivitatis thermarum substratae et coatingis occurrit requisitis specificis electricae et thermarum camporum RF, CHuck electrostaticarum, seu Zonas calefaciendi.
Contaminatio Source Control & CoO De reductione:Summus puritas CVD depositionis stratis densissime sigillum graphite raribile, signanter minuens particulam effusionis, ultra vestigium metalli immunditiae diffusionis, et periculo-summa temperatura profusio.

Typical Coating Electio Comparison (At-a-Glance Guide)

Coating	Typical Directions Application	Core Commoda
CVD SiC	Si/SiC epitaxy (Epi), MOCVD, plasma partiale etching .	Alta puritas, bona stabilitas scelerisque, resistentia chemica corrosio, alta altiore cost-perficiendi
CVD TaC	Summus temperatus Sic simplex incrementum crystallum (PVT), summus temperatus, summus onus afferens components	Superior temperatus rating (>1600 °C), resistentia corrosionis fortis, resistentia oxidationis excellentis

Verus Causa & Customer Benefits (Experientia):

Epitaxy ducens SiC (Epi) opificem;Primigenia pars usus CVD TaC incomparabili coatingit, unde fit in nimia interfaciali accentus et parvarum rimarum frequentia in caliditate. Nos rursus simulationes thermodynamicas currentes et switched ad aCTE proprium singularitatem altae puritatis graphitae subiectae + iacuit quiddam + CVD SiC coatingsolutio. Consequuntur: media pars vita aucta ab 200 horis ad 850 horis; annualis postea frequentia per instrumentum delapsa ab 40 ad 9 temporibus; comprehendo apparatu O&M compendiorum sumptus RMB 650,000 per annum excesserunt.

GDMS purity analysis report for TaC coating

GDMS purity analysis report for SiC coating

GDMS pudicitia analysis fama pro TaC et SiC coatings

FAQ

1. Q: Quomodo eligo inter CVD SiC coating et CVD TaC coating?

▼

A:Aspice processum tuum temperatum et intensionem gas-phasmatis corrosionis. Si processus temperatus infra 1000°C est et maxime involvit Cl₂/F₂-fundatur etching epitaxia vel conventionali, eligeCVD SiCpro decimis cost-perficiendis; si processus temperaturae MCC °C excedit et vehementer atmosphaeras corrosivae involvit (exempli causa, SiC PVT incrementum unius crystalli), commendamus nosCVD TaCquae superiorem temperiem et corrosionem resistentiam praebet. Liberam electionem commendationem praebere possumus relationem quae in certis processu parametris vestris fundata est.

2. Q: Sustines singulas partes / parvas massam prototyping? Quid est plumbi tempus?

▼

A:Ita! Pro econverso-ipsum prototypa;MOQ est I fragmen. Pro partibus simplicibus conventionalibus, ab receptis sample ad traditionem partis divisi, tempus velocissimum plumbi est proxime10-15 operantes dies; nam partes tunicae processus implicatae sunt circiter20-25 diebus opus. Contactum fabrum nostrum ad aestimationem expediendam.

3. Q: Quid facit CVD delaminationem efficiens in partibus graphitis in usu? Potestne solvi?

▼

A:90% casuum delaminationis causantur mismatches inter coefficientes expansionis scelerisque (CTE) graphitae subiectae et tunicae, ducens ad lassitudinem decorticationem sub calefactione celeri / refrigerando. Solutio nostra: primum praecise curvam CTE tuae partis originalis metiaris, tum praecipue densitatem et depositionem clivi temperaturae substratae compone, ita ut duo CTEs valde pares sint. Vinculum robur melius melius quam1.5 temporibusindustria conventional.

4. Q: Potesne praebere CoA (Certificatum Analysis) productis? Quid enim includit notitia?

▼

A:Omnis uit productum est vexillum cum aunique Vide numerum + plenum CoA fama. Renuntiatio includit: dimensio critica CMM notitia inspectionis, multi-puncti crassitudinis, tabulae distributio, asperitas superficies (Ra) valorum, et puritas materialis (GDMS) conclusionum analysis.

Add Your Exclusive Service Now

Phone: +86-18069220752(Tina);+86-15988690905(Sera)

Inscriptio: anny@veteksemi.com

QR code

De Us

Products

Nobis loquere

Phone
+86-18069220752
+86-15988690905
Fax
+86-579-87223657
Email
anny@veteksemi.com
Oratio
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi Comitatus, Jinhua urbs, Zhejiang Provincia, China

Web Menu

Product Search

Lingua

Exit Menu