SiC coating Monocrystallini Pii epitaxial lance

VeTek semiconductor's SiC coating monocrystallini silicon epitaxiale traculum specialiter designatum est incrementi epitaxialis siliconis monocrystallini et in applicatione industrialis epitaxiae monocrystallini siliconis epitaxiae et semiconductoris affinis munus magni momenti agit.Sic coatingNon solum significantly amplio ad temperatus resistentia et corrosio resistentia de lance, sed etiam ensures diu terminus stabilitatem et optimum perficientur in extrema environments.

Commoda sicci

● High scelerisque conductivity: SiC efficiens vehementer ampliat capacitatem lance thermarum administratione et potest efficaciter dispergere calorem ab summus potentiae machinas generatae.

●  Corrosion resistentia: Sic coating peragit bene in altum temperatus et corrosive environments, ensuring diu-term muneris vitae et reliability.

●   Superficiem uniformitatem: Providet plana et lenis superficies, effective vitandum vestibulum errores causatur per superficiem inaequalis et ensuring stabilitatem epitaxial incrementum.

Secundum ad investigationem, cum pie mole de graphite subiectum est inter C et D NM, in Sic gradiente coating parari possunt in graphite subiecta, et sic coating habet fortior anti-oxidation facultatem. Et oxidatio resistentia in sicco in hoc graphite (triangularem curva) multo fortior quam aliae specificatibus graphite, idoneam ad incrementum unius crystallum Silicon epitaxy. Vetek Semiconductor est Sicum Monocrystalline Silicon Epitaxial Tray utitur SGL Graphite sicutGraphite subiecta, Quod non potest consequi huiusmodi perficientur.

VeTek Semiconductoris SiC efficiens Monocrystallinum silicon epitaxialis lance utitur optimis materiis graphitis et processui technologiae SiC antecedens. Maxime, quaenam producta customization eget clientibus, optime convenire possumus.

Basicae physicae proprietates CVD Sic coating

Vetek semiconductor productio officinae