Quantum tu scis de CVD sic? - Vetek Semiconductor

Cvd sic(Chemical vapor depositione Silicon carbide) est summus puritas Silicon carbide materia fabrica per eget vapor depositione. Est maxime usus pro variis components et coatings in semiconductor processus apparatu. CvdSic materialesHabet optimum scelerisque stabilitatem, princeps duritia, humilis scelerisque expansion coefficient et excellens chemical corrosio resistentia, faciens idealis materiam ad usum sub extrema processus conditionibus.

Cvdsic materia est late in components involving altum temperatus, altus corrosive environment et alta mechanica accentus in semiconductor vestibulum processus.

Cvd sicComponentsmaxime inter quae sequuntur products

● Cvdsic coating

Est usus ut tutela iacuit pro Semiconductor processus apparatu ne subiectum a esse laedatur a caliditas, chemical corrosio et mechanica gerunt.

● Sic lagae navem

Est usus ad portare et onerariam lagana in summus temperatus processuum (ut diffusio et epitaxial augmentum) ut stabilitatem lagana et uniformitatem processibus.

● Sic processum tubo

Sic processum tubos sunt maxime in diffusione furnorum et oxidatio furnaces providere a coercetur reactionem elit pro Silicon wafers, cursus precise materia depositione et uniformis doping distribuit.

● Sic cantilever paxillum

SIC cantilever paddle est maxime ad portare et firmamentum Silicon Wafers in Diffusu Furnorum et oxidation Furnaces, ludens portantes partes. Maxime in summus temperatus processus ut diffusio, oxidatio, annealing, etc, id ensures stabilitatem et uniformis curatio Silicon lana in extrema environments.

● Cvd sic imber caput

Est usus est in Gas distribution component in plasma Etching apparatu, cum optimum corrosio resistentia et scelerisque stabilitatem ut uniformis Gas distribution et etching effectus.

● Sic laqueus laquearia

Componentsin apparatu reactionem cubiculum, solebat praesidio apparatu a damnum a caliditas et mordive vapores, et extend in ministerium vitae apparatu.

● Silicon Epitaxy susceptores

Wafer carriers in Silicon epitaxial incrementum processus ut uniformis calefactio et deposition qualis est.

Chemical vapor deposita Silicon Carbide (cvd sic) habet amplis applications in semiconductor processus, maxime ad armigere cogitationes et components qui repugnant ad altum temperaturis, corrosio, et alta duritia. 

Cvd sicCore partes reflectitur in sequentibus facies

✔ Protective coatings in summus temperatus environments

Munus: CVD sic est saepe usus est superficiem coatings of key components in semiconductor apparatu (ut suctores, reactionem aethereum liniarum, etc.) Hi components postulo ut opus in altus-temperatus environments, et cvd sic coatings potest providere optimum scelerisque stabilitatem praesidio subiecti ab altus-temperatus damna.

CommodaEt excelsum liquescens punctum et optimum scelerisque conductivity of CVD sic ut in components potest operari stabiliter diu sub altum temperatus conditionibus, extendens ministerium vitae apparatu.

✔ Anti-corrosio applications

MunusIn semiconductor vestibulum processus, cvd sic coating potest efficaciter resistere exesa et mordax vapores et oeconomiae et protegat integritas apparatu et cogitationes. Hoc est maxime momenti pertractatio altus mordax vapores ut fluorides et chlorides.

Commoda: Depositing CVD sic coating super superficiem de component, in apparatu damnum et sustentacionem costs per corrosio potest valde reducitur et productio efficientiam potest esse melius.

✔ High vires et gere, repugnans applications

Munus: CVD sic materia est notum est summus duritie et alta mechanica vires. Est late in semiconductor components quod requirere gerunt resistentiam et altum praecisione, ut mechanica signacula, onus-afferentem components, etc hi components sunt subiecta fortis mechanica accentus et frictiones in operationem. CVD sic potest efficaciter resistere haec passiones et ensure longa vita et firmum perficientur de fabrica.

Commoda: Components factum ex CVD sic non solum sustinere mechanica accentus in extrema environments, sed etiam ponere eorum dimensional stabilitatem et superficiem metam post longa-term usus.

In eodem tempore, CVD sic licit a vitalis munus inDUXERIT epitaxial incrementum, Power semiconductors et aliis agris. In semiconductor vestibulum processus, cvd sic non solebat, ut solentEpi susceptores. Eorum optimum scelerisque conductivity et eget stabilitatem et crevit epitaxial layers habent altius qualitas et constantia. In addition, cvd sic etiam late inPSS Etching carriers, RTP Wafer carriers, ICP etching carriers, Etc., providing firmum et reliable firmamentum in semiconductor etching ut fabrica perficientur.

Vetek Semiconductor technology Co., Ltd est ducens provisor de provectus membrana materiae ad semiconductor industria. Nostrum comitatu focus in developing-ore solutiones ad industria.

Our main product offerings include CVD silicon carbide (SiC) coatings, tantalum carbide (TaC) coatings, bulk SiC, SiC powders, and high-purity SiC materials, SiC coated graphite susceptor, preheat, TaC coated diversion ring, halfmoon, cutting parts etc., the purity is below 5ppm, cutting rings can meet customer requirements.

Vetek semiconductor focus in developing cutting-ore technology et uber progressionem solutions ad semiconductor industria.Nos sincere spes est tibi longa-term socium in Sina.