Oxidatio et diffusio fornacis

Fornax oxidatio et diffusio in variis campis adhibentur ut machinae semiconductores, cogitationes discretae, machinae optoelectronic, potentia electronica machinis, cellulis solaris, et magnarum ambitus fabricationis integralis. Utuntur ad processuum diffusionem, oxidationem, furnum, mixtionem, et lagana enormationes.

VeTek Semiconductor primarius est opificem specialiter in productione graphitae altae puritatis, carbidi pii et vicus partium in oxidatione et diffusione fornacis. Committimus fornaces praecipuas comparandi partes semiconductoris et industriae photovoltaicae, et sunt in fronte technologiae superficiei tunicae, ut CVD-SiC, CVD-TaC, pyrocarbon, etc.

Commoda VeTek Semiconductoris partium carbide pii:

Repugnantia caliditas (usque ad 1600℃)

Optimum scelerisque conductivity et scelerisque stabilitatem

Bonum chemica resistentia corrosio

Humilis coefficiens scelerisque expansion

Princeps roboris et duritiem

Longum officium vitae

In fornacibus oxidationibus et diffusionibus, ob praesentiam caliditatis et vaporum corrosivorum, multa membra requirunt usum materiae gravissimae et corrosionis repugnantis, inter quas carbida silicon (SiC) electura communiter adhibita est. Communia sunt haec carbide Pii communia in fornacibus oxidationibus et in fornacibus diffusionibus;

laganum cymba

Navicula lagana siliconis carbide est continens lagana silicon baiulans, quae altas temperaturas sustinere potest et cum laganis siliconibus non agere.

Fornax tube

Tubus fornax est nucleus fornacis diffusionis, usus ad lagana pii accommodare et reactionem ambitum regere. Pii carbide fornacis fistulae excellentes caliditas et corrosio resistentiae perficiendi habent.

Baffle Plate

Solebat moderari distributionem airflow et temperatus intra fornacem

Thermocouple Tubus

Solebat temperaturas thermocouplas metiri ex directo contactu cum vaporibus mordentibus.

Cantilever Paddle

Silicon carbida cantilena paddles caliditas et corrosioni resistunt, et adhibentur navigia siliconum vel vicus, quae lagana pii lagana in diffusionem fistulae fornacis gestant.

Gas Injector

Reactionem gasi in fornacem inducendam adhibitam, caliditas et corrosioni resistendum esse debet.

Phasellus Portitorem

Silius carbide laganum scapha ferebat, adhibita lagana Pii figere et sustentare, quae commoda habent ut vires altae, resistentia corrosionis et stabilitatis bonae structuralis.

Fornax ostium

Pii carbide coatingis vel componentibus adhiberi potest etiam in fornace fornacis intus.

Calefactio elementum

Pii carbida elementa calefactoriae temperaturis altae potentiae aptae sunt et celeriter temperaturas super 1000℃ elevare possunt.

SiC Liner

Usus ad tuendam interiorem murum fistulae fornacis, adiuvat reducere amissionem energiae caloris et duras ambitus sustinere ut caliditas et pressura alta.