Sic cantilever paddles

Ⅰ.product usage Overview

SIC cantilever paddles sunt maxime in semiconductor productio apparatu ut laganum auxilium et tradenda components. Eius core munus est ad stabiliter et verius processus siliconii lana sub extremam processus condiciones ut altum temperatus et altum corrosio, cursus lenis et efficiente productionem processus.

Ⅱ.Adventages et characteres de sic materiae

SIC est provectus Ceramic materia cuius optimum corporalis proprietatibus dare eam unice utilitas in semiconductor agri. Et haec est key corporalis parametri ad sic cantilever paddles:

● Puritas: Usus summus puritas sic materia potest minimize processus contaminari et amplio uber cede.

● optimum summus temperatus resistentia: SIC habet liquescens punctum usque ad MMDCCCXXX ° C, quod dat ea ponere structural integritas in extrema temperatus environing ut Plasma etching et summus temperatus annealing, et longa-term operating temperatus potest pervenire plus quam M ° C.

● princeps duritia et gerunt resistentia: Quod Mohs durities est 9-9.5, secundo tantum adamas, dantes sic cantilever paddles optimum lapsum resistentia et maintaining dimensional stabilitatem durante summus frequency lagae tradenda.

● optimum scelerisque conductivity: The thermal conductivity of SiC ceramics is as high as 120-250 W/(m·K) (typical value), which can quickly dissipate heat and avoid local overheating that may damage the wafer.

● humilis scelerisque expansion coefficientemEt humilis scelerisque expansion coefficiente (circiter 4.0 × 10⁻⁶ / k) ensures dimensional stabilitatem cum temperatus mutationes, vitat accentus per scelerisque dilatatio et contractionem.

Ⅲ. Applicationem missionibus de sic cantilever paddles

De unique proprietatibus sic cantilever paddles enable eos ludere a key partes in multiple links of semiconductor vestibulum:

● Plasma Etching EquipmentIn Plasma Etching cubiculum, sic cantilever paddles serve ut wafer sustinet, quod potest resistere plasma bombardi et mordax Gas exesa cum maintaining dimensional stabilitatem, ensuring etching accurate et extendens apparatu vitae.

● Tenues film depositione Equipment (CVD / PVD)In processus of eget vapor depositione (cvd) et corporis vapor depositione (PVD), sic cantilever paddles sunt ad sustentationem wafers. Eorum optimum summus temperatus resistentia et scelerisque conductivity auxilium ad uniformiter calefacere lagana et ne particula contagione generatae durante tenuis film depositione processus.

● Wafer serie Ratio: In automated lacus transferre ratio, sic cantilever paddles potest sustinere summus frequency mechanica motus ex eorum princeps duritia et gerunt resistentia, concurrit accurate et ieiunium translationem lagae inter alia processus et contagione.

● High Temperatus Annealing ProcessusIn summo temperatus annealing fornacem, sic cantilever paddles potest sustinere ultra-altum temperatus environments, praebere firmum firmamentum in wafers, et ensure uniformitatem et efficaciam annealing processus.

Veteksemicon est bene conscientiam de Sterbinatione Requirements De Semiconductor processus pro uber qualitas. Ideo nos subsidium customized servicia et potest providere customized sic cantilever paxillum consilio et productio secundum specifica apparatu et processus requisita. Et quoque control stricte qualis imperium ut quisque productum subit stricte qualis inspectiones ut occurrit summa industria signa.

Potius, Vetisek Semiconductor est technica quadrigis et providebit vos cum comprehensive technica consultatio et uber solutions. Eligendo nostrum sic cantilever paddle significat eligens altius productio efficientiam, iam apparatu vitae et melius productum cede. Vultus deinceps ad tuum porro consultationem.