Vetek Semiconductor est CVD sic graphite cylindrici est pivotal in semiconductor apparatu, servientes sicut tutela scutum intra reactors ad tutela internum components in altum temperatus et pressura occasus. Efficaciter clypeum contra oeconomiae et extrema calore, conservando apparatu integritas. Cum eximia gerunt et corrosio resistentia, ut ensures Vivacitas et stabilitatem in provocans environments. Utique his Covers Enhances Semiconductor fabrica perficientur, extendunt Lifespan et Mitigat sustentacionem requisita et damnum RISKS.WElcome inquisitionis nobis.
Vetek Semiconductor est CVD sic graphite cylindro ludit an maximus munus in semiconductor apparatu. Solet usus est ut a tutela operimentum intra reactor providere praesidium pro interno components de reactor in altum temperatus et altus pressura ambitus. Hoc tutela operimentum potest efficaciter segregare chemicals et altum temperaturis in reactor, prohibere eos ex causa damnum ad apparatu. In eodem tempore, CVD sic graphite cylindrici etiam habet optimum gerunt et corrosio resistentia, faciens illud potest ponere stabilitatem et longa-term diuturnitatem in dura working environments. Per usura tutela opercula fecit de hac materia, in perficientur et reliability of semiconductor cogitationes potest melius, extendens ministerium vitae in fabrica dum reducing sustentacionem indiget et periculo damnum.
Cvd sic graphite cylindri late in semiconductor apparatu, covering sequenti clavem areas:
Calor curatio apparatu
Serves sicut tutela operimentum vel calor clypeus in calor curatio apparatu. Hoc non solum tutelae internum components ab altum temperatus damnum, sed etiam gloriatur praeclarus caliditas resistentia.
Chemical vapor depositione (CVD) reactors
In CVD reactors, quod acts ut a tutela operimentum in eget reactionem thalamum. Efficaciter isolatest reactiones substantiae et offert bonum corrosio resistentia.
CORREROSUS environments
Gratias ad suum outstanding corrosio resistentia, cvd sic graphite cylindrici potest adhiberi in chemica mordax occasus per semiconductor vestibulum, ut ambitibus cum mordax vapores aut liquida.
Semiconductor augmentum apparatu
Hoc munera ut tutela opercula vel alias components in semiconductor augmentum apparatu. Per protegens in apparatu ab altum temperaturis, chemical corrosio, et gerunt, ut ensures apparatu scriptor stabilitatem et longum - terminus reliability.
Humanum - temperatus stabilitatem, corrosio resistentia, optimum mechanica proprietatibus et bona scelerisque conductivity, cvd calor in semiconductor cogitationes, ita maintaining fabrica stabilitatem et perficientur.
Basic physica proprietatibus CVD sic coating:
Basic physica proprietatibus CVD sic coating
Res
Typical valorem
Crystal structure
FCC β tempus Polycrystalline, maxime (CXI) Oriented
Densitas
3,21 G / CM³
Durities
MMD Vickers Duritia (500g Load)
Frumea magnitudine
II ~ 10mm
Chemical castitas
99,99995%
Calor
DCXL J · k-1· K-1
Sublimation Temperatus
MMDCC ℃
Flacalis fortitudinem
CDXV MPA Rt IV-Point
Young 's modulo
CDXXX GPA 4pt flectere, MCCC ℃
Scelerisque conductivity
300W · M-1· K-1
Thermal Expansion (CTE)
4.5 × X-6K-1
Productio officinae:
Overview de Semiconductor chip epitaxy Industry catenae:
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Crusulis utimur ut meliorem experientiam pasco tibi praebeamus, situm negotiationis et personalize contentus analyse. Hoc situ utendo, ad nostrum crustulorum usum consentis. Privacy Policy