Vertical fornacem Sic iactaret circulum

In fornacibus verticalibus usus annulorum SiC obductis solutio communis est, maxime adhibita in processibus curationum caloris calidissimus.semiconductor lagana. Fornax verticalis SiC obductis circuli sunt summus perficientur, summus temperatura resistens componentibus usus est ad lagana sustinenda vel tutanda ad stabilitatem ac firmitatem processus servandam.

Et functiones verticalis fornacis Sic iactaret circulum

● Munera

Supporting munus. Ad firmitatem ad fulcrum ad curare stabilitatem et accurate situ in altum temperies Furnorum.

●  Corrosio praesidium

Praeveni vapores mordaces vel oeconomiae ex materia basi corrodente.

●  PROPUDIUM

High-puritatem sic coating potest efficaciter ne particulam effusione et immunditia contaminationem ad curare processus munditiam.

●  Summus temperatus resistentia

Praeclaras proprietates mechanicas et dimensiones stabilitatis in ambitibus calidis (plerumque super 1000°C).

Quod Features of vertical fornacis Sic iactaret circulum

●  Summus duritia et fortitudo

Sic materiae optimum mechanica vires et potest sustinere altum temperatus accentus in camino.

●  Bonum scelerisque stabilitatem

Princeps scelerisque conductivity et humilis scelerisque expansionem coefficiens auxilium lacus scelerisque minuere.

●  Fortis eget stabilitas

Sic coatings potest resistere corrosio oxidizing, acidic vel alkaline environments.

●  Low particula contamination

Lene superficies reducit possibilitatem particula generationis, quae maxime idoneam ad ultra-mundum environment of semiconductor vestibulum.

Usus est diffusio, oxidatio, annealing et aliis processibus in verticali Furnaces ad auxilium Silicon lana et ne particula contamination in calor curatio.

Manufacturing materiae et processibus

●   Substrate: GENERALIS SGL graphite factus, qualitas praestatur.

●   Coating: Silicon carbide coating graphite superficiei a chemico vapore deposito applicatur (CVD).

● et coating crassitudine est plerumque inter L ~ 50μm, quod est adaequatum secundum usum requisita.

● et eget vapor depositione sic coating habet altiorem puritatem et densitatem, et meliorem diuturnitatem.

Eligere convenientemSic coatingAnulum secundum diameter Silicon laga in camino et carrier cubits. Nos mos mos est tibi. Puritas, densa coating est durabile et minus polluting.regularly reponere secundum frequency usum et processus requisita vitare contaminationem vel firmamentum defectum propter coating senescit.

Ut professional vertical fornacem sic iactaret anulum elit et fabrica in Sina, Veteec Semiconductor habet diu committitur provectus provectus vertical fornacem technology et uber solutions pro semiconductor industria. Nos sincere vultus deinceps ad becoming vestri diu-term socium in Sinis.

CVD SIC CRYSTALLOS STRUCTURA

Basic physica proprietatibus CVD sic coating

VeTek SemiconductorVertical fornacem Sic iactaret circulum tabernas: