Sic iactaret altum UV duxit susceptorum

Sic iactaret altum UV duxit Roctecom est core ferre component inMucvd (Metal Organic Chemical Vapor Depositione) Equipment. Et susceptator directe afficit uniformitatem, crassitudine potestate et material qualitas abyssi UV ducitur epitaxial incrementum, praesertim in incrementum aluminium nitride (aln) epitaxial cum altum aluminium contentus, et perficientur ad altum aluminium contentus, in consilio et perficientur ad altum aluminium contentus, in consilio et perficientur ad altum aluminium contentus, et perficientur et altum aluminium contentus, in consilio et perficientur ad altum aluminium.

SIC iactaret profunda UV duxit susceptator est specialiter optimized ad altum UV ducitur epitaxy, et prorsus disposito fundatur in scelerisque, mechanica et eget elit.

Vetek semiconductor utitur provectus processus technology ut uniformis calor distributionem ad susceptos in operating temperatus range, avoiding non-uniformis incrementum de epitaxial accumsan a temperatus gradiente. Procisione dispensando controls superficiem asperitas, minimizes particula contaminationem et amplio ad scelerisque conductivity efficientiam de laganum superficiem contactus.

Vetek Semiconductor utitur SGL Graphite sicut materia, et superficies agitur cumCVD sic coating, Quod potest resistere NH3, HCL et altum temperatus aeris diu. Vetek Semiconductor est Sic iactaret altum UV duxit susceptator aequet scelerisque expansion coefficientem Aln / Gan epitaxial wafers, reducendo laganum warping aut fregisset per scelerisque accentus per processus.

Maxime, Vetisk Semiconductor de Sic iactaret profunda UV duxit susceptam perfectly adaptat ad mainstream mulgvd apparatu (including veeco k465i, Epik DCC, C. etc.). Supports customized servicia in laganum magnitudine (II ~ VIII pollices), laganum sors consilio, process temperatus et alia requisita.

Applicationem missionibus:

● Altum UV duced Praeparatio: Applicabiles ad epitaxial processus cogitationes in cohortem infra CCLX NM (UV-C disinfection, sterilizationem et aliis agri).

● Nitride Semiconductor epitaxy: Usus ad epitaxial praeparatione semiconductor materiae ut Gallium Nitride (Gan) et Aluminium Nitride (Aln).

● Research-Level Epitaxial Experimenta: UV EPITAXY et novi materia progressionem experimenta in universitatibus et investigationis institutions.

Cum firmamentum fortis technica quadrigis, Vetec semiconductor possit develop susceptatores cum unique cubits et munera secundum mos necessitatibus, firmamentum propria productio processibus et providere diu-term officia.

SEM data de CVD sic coating film:

Basic physica proprietatibus CVD sic coating:

Et semiconductorSIC iactaret altum UV duxit susceptos Product officinae: