Aixtron MOCVD Susceptor

Et susceptatores produciEt semiconductorfiunt e graphite substrato et carbide pii (SiC) efficiens materiam. Cum superiores gerunt resistentia, corrosio resistentia et praealtissima duritia materiae SiC, maxime apta est usui in ambitus processus asperos. Susceptores igitur a Vetek Semiconductor producti directe adhiberi possunt in processibus calidis MOCVD sine curatione superficiali addito.

Susceptors sunt clavis components in semiconductor vestibulum, praesertim in Mocvd apparatu enim tenuis film depositione processus. Pelagus partesAixtron SiC Susceptorin MOCVD processu est lagana semiconductoris deferendi, ut uniformis et summus qualitas tenuium membranarum depositionem foveat uniformem calorem distributionem et ambitum reactionem, ut praecipuum qualitatem tenuem cinematographicam efficiat.

Aixtron MOCVD SusceptorSolet autem lagana semiconductoris basin firmare et figere ad stabilitatem lagani in processu depositionis servandae. Eodem tempore, superficies vestis Aixtron MOCVD Susceptoris carbide pii (SiC), materia maxime effectiva, efficitur. SiC coating in superficie lagani uniformem temperationem efficit, et aequabilis calefactio essentialis est ad obtinendum membranae qualitatem.

PorroAixtron MOCVD SusceptorNos producendum ludit maius partes in moderantum fluxus et distribution reactive vapores per optimized consilio materiae. Vitare Abba excursus et temperatus gradibus ad consequi uniformis film depositione.

Potius, in Mucvd processum, in Silicon Carbide (sic) coating materia est corrosio resistentia, itaEt semiconductor'sAixtron MOCVD Susceptorpossunt etiam sustinere caliditates et vapores mordaces.

Basic physica ofSic coating:

VeTek Semiconductor Wafer cymba tabernae:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry catena: