Silicon carbide coating lagae possessor

Et Silicon Carbide (microform) coating laganum possessor est essentialis component in semiconductor vestibulum, specie disposito pro ultra-mundum, summus temperatus processibus ut mulge (metallum organicum chemical vapor depositione), LPCVD, Pecvd et scelerisque Annealing. Per integrating densa et uniformisCVD sic coatingIn robust Graphite vel Ceramic subiecta, haec laga carrier ensures tam mechanica stabilitatem et eget inertness sub dura ambitus.

Ⅰ. Core munus in semiconductor processus

In semiconductor fabricatione, laganum possidentium ludere a pivotal partes in cursus lagana sunt securely sustentari, uniformiter calefacto, et protected per depositionem vel scelerisliter curatio. In sic coating praebet inerti obice inter basis subiecta et processus elit efficaciter minimizing particula contaminationem et outgassing, quae critica ad consequi altum fabrica cede et reliability.

Key applications includit:

● epitaxial incrementum (sic, Gan, Gaas laminis)

● Thermal oxidatio et diffusio

● High-temperatus Annealing (> MCC ° F)

● Wafer serie et firmamentum in vacuo et Pure Plasma Processus

Ⅱ. Superior corporis characteres

Haec parametri demonstrabo in laganum possessor est scriptor facultatem ad ponere euismod stabilitate etiam sub rigorous processus cycles, faciens idealis pro proximo-generation fabrica vestibulum.

Ⅲ. Processus Workflow - Step-by Step Application missione

Lets 'accipereMucvd epitaxyUt typical processus sem ad illustrandum est usus:

1. Wafer PlacementEt Silicon, Gan, aut sicca lagana leniter positus onto in sic-iactaret lagam susceptos.

2. Thalamum calefactio: Et thalamum est calefacto celeriter ad altum temperaturis (~ 1000-1600 ° C). Sic coating ensures efficiens scelerisque conduction et superficiem stabilitatem.

3. Praecursor introductio: Metal-organicum praecursores influunt in cubiculum. Et sic coating resistit chemical impetus et prohibet outgassing a subiecto.

4. Epitaxial layer incrementum: Uniform layers deposita sine contagione vel scelerisque distoRTion, gratias ad optimum et eget inertness in praeclara.

5. Refrigescant et extractionPost dispensando, in possessor concedit tutum scelerisque transitus et laganum retrieval sine particula effusione.

Per maintaining dimensional stabilitatem, chemical puritatem, et mechanica vires, in sicco coating laganum suscipit instrumentum improves processus cedat et reduces tool downtime.

CVD Sic amet Crystalli structuram:

Veteksemicon Product CELLA: