VETEK Novus Semiconductor Vestibulum Base Cleanroom Construction Phase

Zhejiang, China - June 2026— Fabricatio VETEK novae basin fabricandae aliud momentum in scenam attigit. Post completionem structurae principalis structurae, opus nunc ad facilitatum semiconductoris graduum cleanroom institutionem transfert.

In situ project, ornamentum interiorem, evacuationes systemata, instrumenta filtrationis aeris et utilitatem pipelines simul instituuntur. Compluribus locis apparatum apparandi scaenam iam ingressi sunt.

Cleanroom Opus progressum ut meditatum

Nova facilitas ad materias semiconductores producendas et ad productos efficiendos destinatur. Comparatus cum officina currenti, novus situs plus spatii productionis et processum administrationis fluens melius providebit.

Area mundissima ad productionem efficiens, subtilitatem ad machinationem, purgationem, inspectionem et packaging, adhibebitur. Locis dedicatis parantur etiam ad uberiora castitatis requisita.

Partes constructionis hodie exsequuntur laquearia institutionem, tractationem aream et systema integrationem sustinentes. Cotidiana opera procedit secundum consilium timeline.

Expectatur serie ab anno finem apparatu

Praeparatio ad apparatum relocationis iam incepit.

Existens instrumenti productionis ad novam facilitatem gradatim movebitur postquam institutionis munditiae perficitur. Consilium relocationis etiam instrumentales calibrationis, iudicii productionis et processus verificationis includit.

Ex hodierna constructione progressus, relocationis maioris instrumenti productionis expectatur ante finem huius anni perficiendum.

Postquam moventur, VETEK fabricandis productis perget comprehendoCVD SiC coatings, TaC coatings, PyC coatings; Firmus SiC componentsetsummus puritas materiae graphitead medicamenta semiconductor.

Pro VETEK quadrigis, officinae novae non solum maius aedificium est. Est suggestum productio destinata ad proximam periodum semiconductoris materialis fabricandi, cum ampliore spatio progressionis evolutionis, instrumenti expansionis et incrementi capacitatis futurae.