Aluminium Nitride (AlN) Ceramic Electrostatic Chuck

1.commoda

• Summus puritas AlN tellus cum conductivity scelerisque usque ad ~180 W/m·K ad calorem efficientem transferendi et temperandi uniformitatem.

• Fortis electricae velit ac magno volumine resistivity firmans clamping ad 1-3 kv (altius voltages available)

• Consuetudo materiarum dielectricorum iacuit et layouts electrodum: Coulomb vel Johnsen-Rahbek (JR); una vel multi-zona

• Fibulae ieiunium et perficientur de-fibulatae sunt, plerumque sub 0.1 secundo

• Superficies dimple microstructuras descendens ad 300 µm diametros, reducendo contactum aream ad tam humilem quam ~1%

• Celsus, idoneus, facultas; typicam planitiam globalem ex ordine 0.5-3 μm PV pro 300 mm classium suggestis

• Densa microstructura cum aqua nulla prope effusio et bona chemica resistentia ad processum ferendum

2.Typical Applications

Aluminium Nitride Ceramic Electrostaticae Chucks in processu graduum adhibentur, qui requirunt et laganum securum habentes et moderati mores scelerisques;

• Arida plasma etch (ICP / RIE) et processuum cubiculi cognata

• CVD, PALD, thermas ALD, et aliae cinematographicae depositiones

• Annealing et processus moduli scelerisque laganum aequabile requirunt temperies

• Inspectio, metologia et praecisio gradus in quibus humilis particula et stabilis clamitatio critica sunt

3.AlN Material Gradus - Typical Properties

VeTek plures Aluminium Nitride gradus praebet ad pondus scelerisque conductivity, vires mechanicas et sumptus ad consilia ESC:

Unitates: conductivity scelerisque in W/(m·K); vis dielectric in kV/mm; volumen resistentiae in Ω·cm (25°C); dielectric assidue in 1 MHz. Valores sunt typicae et possunt variari cum processu et parte geometriae.

4.Typical ESC Design Parameters

5.Cur Choose VeTek AlN Electrostatic Chucks?

VeTek Semiconductor integrat AlN ceramicos cum amussim ESC fabricando pro clientibus semiconductoribus qui tam scelerisque operandis et certa clamping eget:

• Multiplices AlN gradus cum conductivity scelerisque ab ~90 ad ~ 180 W/m·K ad par processus rationes scelerisque

• Electrode flexibilia et dielectrica consilio coulomb vel JR clamping

• Stricta moderatio planitudinis, microstructure superficiei, et electricae operationis insulae

• Full lifecycle support: design, new builder, and multi-level refurbishment .

Nam SCELERO, depositio, et instrumenta thermarum quae ab lagano aequabili temperie et mundo, iterabili clamitatione pendent, VeTek Aluminium Nitride Ceramic Electrostaticae Chucks altam perficientur Ceramici suggestum subnixum per applicationem machinalis machinalis adiumentum praebent.