Ald planetarum susceptator

Sicut professional manufacturer, Vetek Semiconductor vellem inducere vos sic stolis nuclei iacuit depositione planetarum susceptator.

Et Ald processum est quoque notum ut nuclei layer epitaxy. Veteksemicon est laboraverunt arctius cum ducens ald ratio manufacturers ad Pioneer progressionem et fabricare de cutting-extremis sic-iactaret Ald planetarum susceptatores. Hae innovative susceptatores diligenter disposito ad plene occursum ad restrictius requisitis Ald processus et invigilandum uniformis Gas influunt distribution trans subiectum.

Praeterea, Veteksemicon polliceri excelsum puritatem per depositionem exolvuntur per usura a summus puritate CVD sic coating (puritatem usque ad 99,99995%). Hoc summus puritas sic non coating non solum improves processum reliability, sed etiam amplio altiore perficientur et repeatability de Ald processus in diversis applications.

Franking in auto-developed cvd Silicon carbide depositionem fornacem (patented technology) et numerus coating processus patents (ut gradientis coating consilio, interface iunctura confortans technology:

Lorem Services: Support customers ut specificare graphite materiae ut Toyo ipsum et SGL ipsum.

Qualis Certification: quod productum transivit Semi vexillum test et particulam effusione rate est <0.01%, occurrens provectus processus requisitis infra 7nm.

Commoda Ald Technology Overview:

● precise crassitudine imperium: Consequi sub-Nanometer film crassitudine cum excelleNT repeatability a controlling depositione circuitus.

● Summus temperatus resistant: Potest operari stabiliter diu in altum temperatus environment supra MCC ℃, cum optimum scelerisque inpulsa resistentia et non periculo fregisset vel excelsum. 

   In scelerisque expansion coefficientem coating compositus est de graphite subiectum bene, cursus uniformis calor agro distribution et reducing silicon laga deformatio.

● superficiem lenitate: Perfect 3D conformatio et C% gradus coverage curare lenis coatings sequi subiectum curvaturam totaliter.

● Repugnant corrosio et plasma exesa: SIC coatings efficaciter resistere exesa halogen vapores (ut CL₂, f₂) et Plasma, idoneam etching, CVD et alia dura processus ambitus.

● Wide Applicability: De diversis obiecti a wafers ad pulveres, idoneam sensitivo subiecta.

● Fusce materia proprietatibus: Securus Aliquam de materia proprietatibus oxides, nitrides, metallis, etc.

● wide processus fenestra: Insensitivity ad temperatus et precursor variationes, conducat ad batch productionem cum perfecta coating crassitudine uniformitatem.

Applicationem sem:

I. Semiconductor vestibulum apparatu

EPITAXY, ut Core Portitorem Mucvd reactionem cavum, id ensur uniformis calefactio de lagae et amplio qualis est epitaxy layer.

Etching et depositionem Processus: Electrode components usus est in sicco etching et nuclei iacuit depositione (Ald) apparatu, quod sustinere summus frequency plasma bombardment MXVI.

II. Photovoltaic industria

Polysilicon Ingot fornacis: ut a scelerisque agri firmamentum component, reducere introductio impudicitiis, amplio puritatem Silicon Ingot, et Auxilium efficientem solis cellula productio.

Ut a ducens Seres Ald planetarum susceptator fabrica et elit, Veteksemicon est committitur providing vos cum provectus tenuis film depositione technology solutions. Vestri porro inquiries sunt grata.

Basic physica proprietatibus CVD sic coating: