Ald Fused Quartz Pedestal

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal munere clavem agit in processu vestibulum semiconductoris ut structuram sustentantis advicus navicula, Quod adhibetur ad tenerelaganum. Fused Quartz Pedestal adjuvat consequi uniformis film depositione a maintaining a stabilis temperatus, quae directe afficit perficientur et reliability de semiconductor cogitationes. Praeterea, quartz basedal ensures uniformis distribution caloris et lucis in processum cubiculum, ita improving altiore quale depositionem processus.

Ald Fused Quartz Pedestal Material commoda

Summus temperatus resistentia: Punctum vicus fusi molliens tam altum est quam circiter 1730°C, et operationem caliditatis 1100°C ad 1250°C diu sustinere potest, et ad extremas temperaturae ambitus usque ad 1450°C exponi potest. ad breve tempus.

Optimum Corrosio Resistentia: Fused Quartz est altus chemica inerti fere acidis nisi hydrofluoric acidum. Et acidum resistentia est XXX temporibus altior quam LATERAMEN et CL temporibus altior quam immaculatam ferro. Fused Quartz est chemica in altum temperaturis, faciens idealis materia ad universa chemical processus.

Scelerisque status: A key pluma de fusitus quartz basi materia est eius maxime humilis coefficiens scelerisque expansion. Hoc modo potest facile tractare dramatic temperatus fluctus sine elit. Exempli gratia, fusurus silica Quartz potest esse cito succensa ad MC ° C et immediate directe in frigore aqua sine damnum, quod magna pluma in summus accentus fabrica conditionibus.

Strenuus processus vestibulum: Productio processus fused silica stricte adhaeret altus qualitas signa. Productio processus utitur calidum formatam et welding processibus, quae plerumque perficitur genus 10,000 elit elit. Deinde, quod erat ad laceratum Vicus speculum pedestal est penitus purgari cum ultima aqua (XVIII mω) ad curare uber puritas et meliorem perficientur. Quisque complevit uber est rigide inspectis, purgari et packaged in genere 1,000 vel altius tanroom ad occursum alta signa de semiconductor industria.

Alta puritas opaca silica vicus material

Veteksemi Ald rotundus Quartz pedestal usus excelsum puritatem opaque quartz materia ad efficaciter segregare calor et lucem. Eius optimum calor scutum et lucem protertim proprietatibus enable eam ponere uniformis temperatus distribution in processus cubiculum, ensuring uniformitatem et constantia tenuisfilm depositioin laganum superficiem.

Applicationem agri

Vicus bases fusae late in multis campis semiconductoris industriae propter excellentem observantiam adhibentur. In theNucleum iacuit depositione (Ald) processus, Non subsidet precise imperium of film augmentum et ensures ad profectum semiconductor cogitationes. Inhumilis pressura eget vapor depositione (lpcvd) processus, thermarum stabilitas ac levis facultatem protegens altae castitatis vicus Pedestal cautiones praebent tenuium membranarum uniformi depositionis, eoque meliori artificio perficiendi et cede.

Praeterea in processu lagani diffusione, caliditas resistentia et resistentia chemicae corrosionis Fused Quartz Pedestal curant fidem et constantiam processus materialis semiconductoris dopingis. Hi processus praecipuos processus electricas operas semiconductoris machinis determinant, et qualitatem materiae Vici Fused pernecessariam habent munus in obtinendo optimos horum processuum exitus.

Vetek Semiconductor Ald Fused Quartz Pedestal tabernas: