Glassy carbonis crucem

I. Material characteres: Non-Graphitized Glassy Carbon, perficientur excellit traditional materiae in omnibus aspectibus

Veteksemicon in Glassy ipsum crucible aduertit provectus summus temperies mortuinis technology et polymer praecursor est processionaliter ad MMM ° C in inerti Gas environment. Hoc habet et densitas vitrum et summus temperatus resistentia Ceramics.Core commoda includit:

✔ ULTRA: Minus quam 2ppm immunditia contentus (ut metallum ut aluminium et ferrum), quod occurrit necessitates semiconductor-gradus materiae.

✔ Extreme temperatus resistentia: Non potest esse stabiliter in MMM ° C in vacuo vel inertes Gas, et vires crescit cum augmentum temperatus (in virtute ad MMCD ° C bis, quod est normalis temperatus ad CCX.

✔ Et anti-permeability Porosity zero: Non sunt aperta poros, et Gas permeability coefficiens est quod humilis ut 10⁻⁹ CM² / s, quae potest vitare oxidatio vel contagione metus.

✔ Optimum electrica et scelerisque conductivity: De scelerisque conductivity 6.3 w / (m K +), resistentia 45μΩ · m, idoneam ad summus frequency inductione calefacit processus.

✔ Chemical corrosio resistentia: Restanti acidum fortis, fortis alkali et conflatili sale corrosio, nulla particula effusione, cursus munditia semiconductor productio.

II. Core Application missiones in Semiconductor processus

Veteksemicon scriptor Glassy ipsum Crucible Products Cover Key Links De totius processus in semiconductor vestibulum, plerumque inter:

I) Single Crystalli Silicon incrementum:

Insulating coating propter sic crystallum incrementum fornacem, improving scelerisque agro stabilitatem et reducing industria consummatio per XX%.

Puritas excelsum Vitare Silicon conflefactus contagione et reducere cancellos defectus.

II) Ion implantatio et Etching processus:

Sicut et electrode et Gas diffusor ad Plasma Etching ratio, id ensures uniformis missionem et processum constantiam.

Anti-ion bombardment characteres extendat apparatu vitae.

III) Metallization et Offering Smelting:

Specimen continens ad Floratus Aurum, Palladii et Titanium Alloys, non-madefecissem superficiem reduces materiae damnum.

Apta purificatio et coronam magnos rara metallis (ut Gallium et indium).

Monitio: Vitrum carbonis cruces non potest esse ad Melt Chromium, Cobalt, Molybdenum Alloys. Similiter non possunt ad conflandum facilius carbide, ut Silicon aut Tungsten.

IV) Advanced packaging et testis:

Ut a wafer translatione carrier (Donec lagae) et calor pondero, id ensures stabilitatem summus temperatus processibus.

III. Enterprise productio vires: magna-scale vestibulum et technicitate innovation

Sicut Sinis scriptor ducens elit speculum ipsum rudis materiae, Veteksemicon has sequentes core commoda:

✔ Plena processus iuris productionem

A rudis materia polymerization ad altus-temperies morticine, totum processus est controllable ut batch constantiam.

Missam productionem facultatem opercula 5μm-gradu ultra-tenuis coatings ad magna cruces (ut diameter 132mm, altitudo 273mm cubits).

✔ Customized processus capabilities

Sustinet non-vexillum mole customization (ut speciale informibus cruciables, tubulis, films), cum tolerantia de% 0.2mm.

✔ Technology R & D RESERVES

Institutionum Scientiarum Institutionibus Academiae Scientiarum Coperandam et Sciences ut develop Nano Glassy (vires usque ad 3GPA) et expand application of Miniatized Semiconductor apparatu.

Ponere de emergentes agros ut cibus cell bipolar laminas et aerospace cauda nozzles promovere crucem-terminus innovation materiae.