Firmus Sic Etching Focusing Ring

VeTek Semiconductor magnum progressum in technologia CVD solidi SiC fecit et nunc solidum SiC Etching Focusing Annulum cum gradu mundi producere potest. VeTek Semiconductor solidus SiC Etching Focusing Annulus est puritatis siliconis carbidi ultra-altae materialis productum creatum per processum Depositionis chemicae vaporis.

Solidus SiC etching anulus positus adhibetur in processibus fabricandis semiconductoribus, praesertim in systematis plasmatis etching. Anulus focus SiC est pars crucialis quae adiuvat ut accuratam et moderatam anaglypha carbide siliconis (SiC) lagana efficiant.

In processu plasmatis etingificationis, anulus umbilicus multiplex functionum ludit, hoc modo:

● Focusing plasma: Quod solidum siccing focusing circulum adjuvat figura et intendi plasma circum lagam, cursus ut etching processus occurs uniformiter et efficientiae. Is adjuvat confiteri plasma ad desideravit area, ne vagarentur etching et damnum ad circumfluam.

●  Protegens aethereum murosEt focusing anulus acts ut obice inter plasma et aethereum muros, ne directum contactus et potential damnum. SIC valde repugnant ad plasma exesa et praebet optimum praesidium ad aethereum muros.

●  Trector potestate: Anulus sic focus adiuvat in conservando temperaturam uniformem distributionem per laganum in processu etching. Calorem dissipare iuvat, ac percalefactionem vel gradationes thermas locales impedit, qui eventus anaglyphos afficere possunt.

SIC solidum est elegit pro focusing annulos debitum ad suum outstanding scelerisque et eget stabilitatem, alta mechanica vires et resistentia ad plasma exesa. Haec proprietatibus facere sic idoneam materiam ad dura et postulantes conditionibus intra Plasma Etching systems.

Suus 'dignum notantes quod consilium et cubits of focusing annulos potest variari secundum specifica Plasma Etching ratio et processus requisita. Vetek Semiconductor ad figura, dimensiones, et superficies characteristics of focusing annulos ut optimal etching perficientur et Vivacitas. Solidum SIC late usus est lagam carriers, susceptatores, phantasma lagae, dux annulos, partes ad etching processus, cvd processus, etc.